聚焦光通信精密加工｜光诚精密邀您相约苏州
以精密研磨抛光 | 赋能高速光互联制造
01 六款核心产品亮相光通信论坛
随着AI算力需求持续增长，光通信产业正加速向高速率、高集成、高可靠性方向演进，光芯片、光器件及关键光学元件对精密加工工艺的加工效率、表面质量、工艺一致性及量产稳定性提出了更高要求。
本次苏州光通信产业链技术交流论坛，博思光诚将携六款核心产品集中亮相，聚焦光通信领域研磨抛光及精密加工需求，为客户提供从工艺到耗材的高效、稳定精密加工解决方案。
02 KSTP-IP80 系列氧化铝抛光液
高效粗抛及背抛 兼顾去除效率与表面效果
KSTP-IP80系列是光诚精密针对InP等材料粗抛及背抛工艺自主研发的氧化铝抛光液。
产品采用纳米级氧化铝。根据现有测试结果，在保证表面效果的同时，最高去除量可达到约2.5μm/min，有助于缩短加工时间，提高整体生产效率。
KSTP-IP80 系列氧化铝抛光液产品图
实际应用效果：
适用于InP材料快速减薄及加工，在提高去除效率的同时，为后续精细抛光提供良好的表面基础。
如需打样测试，请联系王工，13312961176（微信同号）
03 KSTP-SP33 氧化硅抛光液
改善表面状态 提升精细抛光品质
KSTP-SP33是光诚精密自主研发的氧化硅抛光液，主要应用于InP等材料的精细抛光工艺。
KSTP-SP33 系列氧化硅抛光液产品图
实际应用效果：
能够进一步提升InP材料的表面品质，改善表面均匀性与光洁度，为后续工艺处理及器件加工奠定稳定基础。
如需打样测试，请联系王工，13312961176（微信同号）
04 KSTP-SP20 系列氧化硅抛光液
优化表面质量 满足精细抛光需求
KSTP-SP20是光诚精密自主研发的氧化硅抛光液，主要应用于InP等材料的精细抛光工艺。
产品采用纳米级氧化硅，能够获得良好的抛光表面效果，适合粗抛后的精抛或表面优化工序，需配合A剂一起使用。
KSTP-SP20 系列氧化硅抛光液产品图
实际应用效果：
有助于改善InP材料表面质量，提升表面均匀性与光洁度，为后续清洗、检测及器件加工提供更加稳定的表面条件。
如需打样测试，请联系王工，13312961176（微信同号）
05 东丽 KS09 阻尼布
稳定支撑 提升抛光工艺一致性
KS09是日本东丽（TORAY）研发的一款黑色阻尼布，适用于InP等材料的抛光工艺段。
其具备良好的回弹率、压缩性能及孔径结构，可在抛光过程中提供稳定的接触状态，满足常规InP抛光工艺需求。
东丽 KS09 阻尼布产品图
实际应用效果：
能够提升抛光过程中的稳定性与一致性，适用于对加工均匀性和工艺重复性要求较高的应用场景。
如需打样测试，请联系王工，13312961176（微信同号）
06 MPO-300 系列氧化铈抛光液
适配高速抛光设备 纳米级精度
MPO-300是光诚精密自主研发的氧化铈抛光液，主要应用于光纤等材料的精细抛光工艺。
MPO-300分散性优异，沉降少，使用寿命长，显著降低综合成本。广泛应用于光通信、精密光学等领域，助力高端制造提质增效，是精密抛光工艺的理想选择。
MPO-300 系列氧化铈抛光液产品图
实际应用效果：
MPO-300专为高速抛光设备优化设计，实现纳米级精度加工，有效提升光纤及光学元件表面质量。
如需打样测试，请联系王工，13312961176（微信同号）
07 KS18S 东丽PET基黑色阻尼布
高PET基材 高硬度
KS18S 阻尼布采用高韧性PET基底，结合均匀微发泡阻尼层，缓冲性能好，能够减少抛光过程中的划伤、塌边问题。产品耐磨耐用，不易变形收缩，尺寸稳定，保障每一批次加工效果统一。
适配MPO的纤维抛光，配合MPO300 / MPO100氧化铈抛光液进行抛光，提升精密加工良率、降低生产成本。
东丽 KS18S 阻尼布产品图
实际应用效果：
KS18S适配多种研磨液，不易掉屑污染。优异的耐化学性与抗拉伸强度，保障长时间连续加工稳定可靠，是精密表面处理的理想配套耗材。
如需打样测试，请联系王工，13312961176（微信同号）
08六款核心产品 焦光通信精密加工关键环节
从光通信器件的高效研磨抛光，到关键工序的表面精细优化，再到精密加工耗材在稳定性、耐久性及工艺一致性方面的持续升级，光诚精密此次将携六款核心产品亮相，持续围绕光芯片、光器件等精密加工需求，为客户提供更加稳定、高效的研磨抛光产品与工艺支持。
诚邀各位行业伙伴莅临展位，与我们共同交流光通信领域精密研磨抛光技术及实际应用方案。
展会名称：光通信产业链技术交流论坛
展会时间：2026年8月14日
展会地点：江苏苏州 · 苏州日航酒店
展位号码：A07
博思光诚期待与您相约苏州，以精密研磨抛光赋能高速光互联制造。
