产品特点
缓冲性能佳
阻尼层有效分散压力，降低表面划伤风险，尤其适合高价值精密材料的抛光。
稳定性强
在反复加工过程中保持稳定性能，不易变形，确保工艺的可控性。
适合精细工艺
特别适用于对表面质量要求极高的应用。
压力分布均匀
能够在大面积工件表面均匀施压，减少局部过抛或不足的问题，提升整体光洁度。
产品参数
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品质保障
每件抛光垫成品均经过厚度、硬度、孔隙率等多维度全检，确保其微结构均匀稳定，为客户提供始终如一的抛光表现。
同类型抛光垫中，本产品在去除率稳定性与缺陷控制（划痕、凹坑）指标上具有显著优势，可切实满足半导体产线对高良率与工艺窗口的极致追求。
我们通过无与伦比的客户服务，
在全球范围内建立值得信赖的伙伴关系。
