碳化硅晶圆研磨抛光行业正处于第三代半导体产业快速发展的关键阶段。由于碳化硅材料硬度极高，加工难度大，对研磨抛光工艺的精度、稳定性要求极为严苛。作为核心耗材的砂轮、抛光垫、抛光液等产品，行业面临技术门槛高、国际认证复杂等挑战。
某精密光学行业客户
行业背景
痛点&需求
价值
技术性能突破
我们通过材料创新与工艺突破，持续提升光学产品在透光率、反射率、精度及环境稳定性等核心参数上的极限性能，为您提供行业领先的技术保障。
量产质量保障
我们通过先进的制造系统确保批量生产的一致性，让每一件产品都符合严格的质量标准，为您的规模应用提供可靠支持。
快速响应支持
我们提供从设计验证到批量交付的全流程协作，以高效的专业服务缩短您的产品开发周期，加快市场响应速度。
整合解决方案
我们融合多领域技术专长，为您提供创新的系统性光学解决方案，帮助您的产品在激烈的市场竞争中获得技术优势。
良率对比
66
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XXX服务商良率66%
VS
95
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光诚精密良率95%
案例图集
客户评价
"为突破193nm光刻反射镜镀膜应力瓶颈，贵司带来的‘双离子源梯度沉积+原位退火’创新工艺，将膜层反射率提升至99.91%±0.005%，且通过±5℃循环2000次严苛验证。真正的工艺Know-how，铸就了我们产品的核心性能。"
苏州xx精密
研发总监
"当百万级车规透镜订单因温飘一致性濒临违约时，贵司用‘多物理场耦合补偿算法’改造产线，三周内将焦距温飘稳定性从±1.2%优化至±0.15%，成本反降18%。悬崖边上架桥，方显伙伴价值。"
深圳xx激光雷达
供应链副总
